The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,其Z小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定,从而达到Z好的空间解释度与Z高的灵敏度。
VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析,样品例子如催化剂,金属和电子设备,玻璃和聚合物,甚至是生物材料和组织等等。
Ulvac-Phi VP-II在纳米技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品、基本材料如金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料等方面提供完整的表面分析解决方案,包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外);深入薄膜中的组成元素分布概况,包括半导体、薄膜结构,磁介质薄膜,光学镀膜,装饰涂料,和耐磨涂层;在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。