产品参
1、第二代CCD/CMOS全谱光谱仪制造技术（数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术）、通道不受限制 ；
2、引进欧洲技术、同国际光谱仪技术同步，国内生产真空CCD/CMOS全谱技术光谱仪的制造商；
3、基体范围内通道改变、增加不需费用
4、升级多基体方便，无须变动增加硬件 ；
5、优良的数据稳定性，同一样品不同的时间段分析，可获得良好的数据一致性 ；
6、体积小、重量轻， 移动安装方便 ；
7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ；
主要特点：
-
1、可测定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,适用于多种金属基体，如：铁基，铝基，铜基，镍基，铬基，钛 基，镁基，锌基，锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；
-
2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用短的时间达到优的分析效果；
-
3、光学系统采用真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性好；
-
4、特殊的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半；
-
5、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；
-
6、开放式的电极架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸的样品分析；
-
7、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰；
-
8、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ；
-
9、固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性；
-
10、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；
-
11、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半；
-
12、采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，清洁电极更加容易；
-
13、高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况；
-
14、仪器与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性；
-
15、核心器件全部原装进口，保证了仪器优秀品质。
产品参数指标：光学系统光学结构帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统光室温度自动控制恒温：35℃±0.5℃波长范围160-800nm光栅焦距350 mm光栅刻线3600 l/mm一级光谱线色散率1.2 nm/mm探测器多块高性能线阵CCD平均分辨率10pm/pixel激发台气 体冲氩式氩气流量激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量电 极钨材喷射电极技术吹 扫点击自吹扫功能补 偿热变形自补偿设计分析间隙样品台分析间隙：4mm激发光源类 型HEPS数字化固态光源频 率100-1000Hz放电电流1-80A特殊技术放电参数优化设计预 燃高能预燃技术数据采集系统处理器高端ARM处理器，高速数据同步采集处理接 口基于DM9000A的以太数据传输电源与环境要求输 入220VAC 50Hz功 率分析时Z大700W，待机状态40W工作温度10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h）工作湿度20-80%尺寸与重量主机尺寸800*750*500 mm重 量120Kg
